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大氣顆粒物采樣器產(chǎn)品及廠(chǎng)家

美國(guó) Bio-rad轉(zhuǎn)基因儀基因槍系統(tǒng)Helios
美國(guó)bio-rad轉(zhuǎn)基因儀基因槍系統(tǒng)helios,是一種方便的手提式設(shè)備,可對(duì)細(xì)胞進(jìn)行快速直接的原位基因轉(zhuǎn)移。該系統(tǒng)通過(guò)可調(diào)節(jié)的氦氣脈沖,來(lái)帶動(dòng)位于小塑料管內(nèi)壁處預(yù)包有dna、rna或其它生物材料的金粉顆粒,將其直接打入細(xì)胞內(nèi)部。使用樣品管制備站可很容易地制備管內(nèi)“子彈”。
更新時(shí)間:2024-10-21
日立Hitachi 掃描電鏡 FlexSEM1000
日立hitachi掃描電鏡flexsem1000,小巧性能優(yōu)異的鎢燈絲電鏡,擁有大束流和低球差的物鏡和聚光鏡設(shè)計(jì),配備了高分辨率二次電子探頭及高靈敏度五分割背散射探頭,具有卓越的低真空成像能量,并且采用新的semmap高精度導(dǎo)航系統(tǒng)及新全的自動(dòng)化功能,使性能更加優(yōu)越,使用更加簡(jiǎn)便。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)Molecular 光吸收型酶標(biāo)儀 SpectraMax 190
美國(guó)molecular光吸收型酶標(biāo)儀spectramax190,全波長(zhǎng)、多通道微孔板檢測(cè)儀-spectramax190光吸收型酶標(biāo)儀,紫外-可見(jiàn)光吸收讀板機(jī),波長(zhǎng)范圍190-850nm,光學(xué)系統(tǒng)由8個(gè)配備獨(dú)立樣品檢測(cè)器和8個(gè)參照檢測(cè)的組成,速度和精度雙重保障,0-4.0od的檢測(cè)范圍,可做終點(diǎn)法、動(dòng)力學(xué)、光譜掃描。
更新時(shí)間:2024-10-21
賽默飛Themo Scientific高分辨質(zhì)譜儀Orbitrap Exploris 480
賽默飛exploris480作為革命性全新一代組合型超高分辨質(zhì)譜系統(tǒng),賽默飛themoscientific高分辨質(zhì)譜儀orbitrapexploris480占用的空間更小,同時(shí)保持了高分辨率、高質(zhì)量精度和圖譜質(zhì)量。新儀器具有很多新特性,可以延長(zhǎng)正常運(yùn)行時(shí)間,并在高通量分析試驗(yàn)中提高超強(qiáng)穩(wěn)定性。其結(jié)合成熟的技術(shù),先進(jìn)的功能和智能驅(qū)動(dòng)分析框架為研究科學(xué)家更廣泛應(yīng)用質(zhì)譜進(jìn)行高通量的蛋白質(zhì)鑒定、定量和結(jié)構(gòu)表征。全新的surequant及boxcar方法包為超敏感目標(biāo)蛋白定量提供強(qiáng)大助力
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)Allresist 正電子束光刻膠 AR-P 6200
德國(guó)allresist正電子束光刻膠ar-p6200(csar62),高分辨率,用于生產(chǎn)集成電路和掩模的高對(duì)比度電子束電阻。電子束;層thickn。0,05-1,6evm(6000-1000rpm),高靈敏度,可通過(guò)開(kāi)發(fā)人,高分辨率(<10nm)和非常高的對(duì)
更新時(shí)間:2024-10-21
導(dǎo)電膠AR-P-5090 和 AR-P-5091
德國(guó)allresist防護(hù)涂層pmmaelectra92(ar-pc5090),用于非氮基電子束電阻的導(dǎo)電保護(hù)涂層,用于在絕緣襯底上耗散電子束電荷的頂層。
更新時(shí)間:2024-10-21
microchem光刻膠 SU-8 2000 永久性環(huán)氧負(fù)性光刻膠
microchem光刻膠su-82000系列永久性環(huán)氧負(fù)性光刻膠:su-82025,su-82035,su-82050,su-82075,su-82000是一種高對(duì)比度的環(huán)氧樹(shù)脂基光刻膠,適用于微加工和其他微電子應(yīng)用域,需要厚、化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。su-82
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)Allresist  正電子束光刻膠
德國(guó)allresist正電子束光刻膠ar-p610系列,用于納米光刻的ar-p617電子束電阻,共聚物抗蝕劑系列用于生產(chǎn)集成電路和掩模。
更新時(shí)間:2024-10-21
ZEP520A 電子束光刻膠
zep520a是一種高性能正電子束電阻,具有高分辨率、高分辨率敏感性和耐干腐蝕性。適用于各種電子束工藝。
更新時(shí)間:2024-10-21
AZ 光刻膠
az光刻膠,g線(xiàn)/i線(xiàn)/g線(xiàn)i線(xiàn)通用光刻膠系列
更新時(shí)間:2024-10-21
英國(guó)EM  電子束光刻膠 SML Resist
英國(guó)emresist電子束光刻膠smlresist,sml50,sml100,sml300,sm600,sml1000,sml2000
更新時(shí)間:2024-10-21
電子束光刻膠
e-beam電子束光刻膠:hsqxr-1541-006,z520,pmma,。ebl6000系列,ma-n2400系列。納米壓印膠:mr-nil6000e,mr-l900m,mr-uvcur21。光固化膠:ormo系列。
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)Allresist  特殊工藝用光刻膠
德國(guó)allresist特殊工藝用光刻膠,電子束曝光導(dǎo)電膠,耐酸堿保護(hù)膠,聚酰亞胺膠(耐高溫保護(hù)膠),全息光刻用膠,長(zhǎng)波曝光膠,深紫外曝光膠等特殊工藝用膠。
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)Allresist 電子束光刻膠(電子束抗蝕劑)E-beam resist
德國(guó)allresist電子束光刻膠(電子束抗蝕劑)e-beamresist電子束正膠:pmma膠,pmma/ma聚合物,liga用膠等。電子束負(fù)膠:高分辨率電子束負(fù)膠,化學(xué)放大膠(高靈敏度電子束膠)等。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó) RKD 化學(xué)開(kāi)封機(jī) Elite Etch 7000
美國(guó)rkd化學(xué)開(kāi)封機(jī)eliteetch7000機(jī)器尺寸(mm):190x320x305溫度范圍1)發(fā)煙硫酸:25c-250c2)發(fā)煙硝酸:25c-90c3)混酸:25c-100c(eliteetch)4)混酸(利):10c-100c(eliteetchcu)抽酸流量:1-8ml/minute蝕刻頭組件:固定式碳
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)Eppendorf  多功能臺(tái)式離心機(jī)5810R
eppendorf5810/5810r離心機(jī)以其一貫品質(zhì)和可靠性能,為您中等到高通量離心提供最佳解決方案。5810/5810r離心機(jī)不僅具有功能多和容量大的基本特點(diǎn),而且占地面積小,可以離心各類(lèi)試管和工作板。
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)WIGGENS 微量臺(tái)式離心機(jī) BIOCEN 22
wiggens離心機(jī)全部由德國(guó)oem工廠(chǎng)按照設(shè)計(jì)要求定制生產(chǎn)。德國(guó)工廠(chǎng)具有30多年專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)離心機(jī)和其它生物科學(xué)產(chǎn)品的經(jīng)驗(yàn),擁有多項(xiàng)相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的專(zhuān)利。wiggens離心機(jī)產(chǎn)品齊全,型號(hào)多樣,叢小型臺(tái)式離心機(jī)到大型落地式離心機(jī),最高轉(zhuǎn)速達(dá)16500rpm,最大容量可達(dá)3l,多種角轉(zhuǎn)子、水平轉(zhuǎn)子、垂直轉(zhuǎn)子可選。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)珀金埃爾默  PerkinElmer QSight 三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用儀
qsight三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用儀具有自清潔功能的專(zhuān)利設(shè)計(jì),減少對(duì)日常維護(hù)的需求。與其他質(zhì)譜產(chǎn)品相比,可獲得更多的儀器運(yùn)行時(shí)間(35天/年)。采用雙離子源的設(shè)計(jì),避免了多路聯(lián)用方法開(kāi)發(fā)的復(fù)雜性,擁有更短的樣品運(yùn)行時(shí)間,從而提高了生產(chǎn)效率。同時(shí),利用真空壓力差產(chǎn)生層流傳輸離子,具有更好的靈敏度和系統(tǒng)穩(wěn)定性,從而無(wú)需樣品濃縮,并獲得更高的重現(xiàn)性。
更新時(shí)間:2024-10-21
Waters  三重四極桿質(zhì)譜 Xevo TQ-S
xevotq-s為最嚴(yán)苛的uplc/ms/ms定量應(yīng)用而設(shè)計(jì)。串聯(lián)四極桿質(zhì)譜儀的終極性能讓使用xevo平臺(tái)的所有人獲得無(wú)可比擬的靈敏度和穩(wěn)定性。
更新時(shí)間:2024-10-21
賽默飛  三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用儀TSQ Quantum Ultra
thermoscientifictmtsqquantumultratm是賽默飛設(shè)計(jì)精良的經(jīng)典三重四極桿質(zhì)譜儀,集定量分析所需求的靈敏度、選擇性和重復(fù)性于一體??捎糜谑称?、生物基質(zhì)等復(fù)雜體系痕量成分的準(zhǔn)確定量,是tsqquantum家族中的高端產(chǎn)品。
更新時(shí)間:2024-10-21
日本東曹 離子色譜儀 IC-2010
離子色譜分析系統(tǒng)(ic-2010)采用了東曹自行開(kāi)發(fā)的凝膠抑制方式,是搭載了自動(dòng)進(jìn)樣器的一體化高性能離子色譜儀分析系統(tǒng)。簡(jiǎn)單的操作系統(tǒng)與專(zhuān)用高分辨率色譜柱的完美結(jié)合,可以高速,高靈敏度并且簡(jiǎn)便地測(cè)定陰離子和陽(yáng)離子。此外,配備的專(zhuān)用系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)解析的離子色譜工作站,更提供了極為簡(jiǎn)便地儀器控制功能以及高可信度的測(cè)定環(huán)境。
更新時(shí)間:2024-10-21
賽默飛戴安  高壓離子色譜系統(tǒng) ICS-5000+
thermoscientificdionexics-5000+hpic高壓離子色譜:世界上首款毛細(xì)管高壓、“只加水”離子色譜系統(tǒng)。全新的模塊設(shè)計(jì)具有極大的靈活性、功能更全面,操作更簡(jiǎn)便,其完美卓越的性能將色譜分析帶入一個(gè)新的更高境界,分辨率更佳,分析速度更快。通過(guò)毛細(xì)管系統(tǒng)以及分析系統(tǒng)整合組成的ics-5000+高壓離子色譜系統(tǒng),能應(yīng)對(duì)未來(lái)潛在的挑戰(zhàn)以及高級(jí)應(yīng)用,該系統(tǒng)提高了工作效率,擴(kuò)展了工作能力、提高了色譜性能。
更新時(shí)間:2024-10-21
瑞士萬(wàn)通 940 系列譜峰思維TM離子色譜系統(tǒng)
940系列譜峰思維tm離子色譜儀的出現(xiàn),標(biāo)志著離子色譜新時(shí)代的到來(lái)。該系列離子色譜儀在保障非常好系統(tǒng)可靠性和非常簡(jiǎn)便儀器可操作性的同時(shí),還為客戶(hù)提供非常靈活的系統(tǒng)定制方案。它是迄今非常靈活、可信、簡(jiǎn)便的離子色譜系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-10-21
Thermo Scientific Integrion 高壓離子色譜
thermoscientificdionexintegrion(in)hpic,系統(tǒng)采用viper接頭、合理的流式管路布局和靈活配置,專(zhuān)門(mén)圍繞實(shí)驗(yàn)室中的流程難題而直觀設(shè)計(jì)、精心打造。高效dionexionpac4μm離子色譜柱。更高分辨率、更快分析速度挑戰(zhàn)分離極限。小顆??梢栽谳^寬的流速范圍內(nèi)提供更高的柱效。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)沃特世 ACQUITY UPLC 超高效液相色譜
uplc技術(shù),作為高度穩(wěn)定、可靠、重現(xiàn)性好的分離技術(shù),已經(jīng)成功地在全世界各大實(shí)驗(yàn)室的各種苛刻分析領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用。
更新時(shí)間:2024-10-21
島津 Nexera LC-40 液相色譜儀
島津長(zhǎng)久以來(lái)一直致力于提高h(yuǎn)plc的分析性能。同時(shí),島津認(rèn)識(shí)到,整體效率不僅取決于某一臺(tái)儀器的性能,更需要統(tǒng)籌管理實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的所有設(shè)備。如今,在這個(gè)將人工智能(ai)整合到儀器設(shè)備中的時(shí)代,島津解決方案切實(shí)實(shí)現(xiàn)了真正意義上自動(dòng)檢測(cè)。此外,通過(guò)物聯(lián)網(wǎng)(iot)與儀器設(shè)備進(jìn)行網(wǎng)絡(luò)化集成,將使實(shí)驗(yàn)室管理變得更加直觀,儀器狀態(tài)確認(rèn)更加簡(jiǎn)便,資源配置得以更加優(yōu)化。
更新時(shí)間:2024-10-21
日立Chromaster 高效液相色譜儀
“chromaster”是一個(gè)新造詞,取自英文單詞chromatograph(色譜)和master(大師)。這個(gè)詞表達(dá)了日立公司的一個(gè)美好愿景,那就是開(kāi)發(fā)和提供一套頂級(jí)的、性能卓越的液相色譜系統(tǒng)。作為一個(gè)強(qiáng)有力的工具,它將為那些受過(guò)專(zhuān)業(yè)訓(xùn)練、“大師級(jí)”的色譜工作者做出更大貢獻(xiàn)!
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)Agilent  7890B 氣相色譜儀
具備集成智能功能的agilent7890b氣相色譜系統(tǒng)以安捷倫40多年的氣相色譜經(jīng)驗(yàn)為基礎(chǔ)。7890b氣相色譜系統(tǒng)的先進(jìn)功能可幫助用戶(hù)在更短的時(shí)間內(nèi)獲得更多的分析結(jié)果,其高質(zhì)量設(shè)計(jì)和可靠性可保證系統(tǒng)在未來(lái)數(shù)年內(nèi)始終處于高性能水平。
更新時(shí)間:2024-10-21
英國(guó)Ellutia 低熱容快速氣相 GC300 LTM
ellutia新型快速氣相色譜儀,采用專(zhuān)利的毛細(xì)管柱直接加熱技術(shù),無(wú)需配備柱溫箱,即可實(shí)現(xiàn)色譜柱的快速加熱和冷卻效果。與傳統(tǒng)氣相色譜以“分”來(lái)計(jì)算運(yùn)行時(shí)間不同,這是一種真正意義上的快速氣相色譜,運(yùn)行時(shí)間可用“秒”來(lái)計(jì)算!
更新時(shí)間:2024-10-21
 美國(guó)安捷倫 Intuvo 9000 氣相色譜系統(tǒng)
agilentintuvo9000氣相色譜系統(tǒng)徹底改變了用戶(hù)執(zhí)行氣相色譜分析的方式,開(kāi)辟了全面提高運(yùn)行效率和業(yè)務(wù)成果的新途徑。intuvo秉承了安捷倫氣相色譜的卓越性能和穩(wěn)定性,并采用重要的關(guān)鍵創(chuàng)新技術(shù),一舉打破了現(xiàn)有的重重操作限制,大大簡(jiǎn)化了操作、降低了運(yùn)行成本并延長(zhǎng)了儀器的正常運(yùn)行時(shí)間。
更新時(shí)間:2024-10-21
島津旗艦級(jí)氣相色譜儀 Nexis GC-2030
nexisgc-2030氣相色譜儀配備了全新智能交互界面,僅需觸屏即可完成儀器操作并可以實(shí)時(shí)了解儀器運(yùn)行狀態(tài)。創(chuàng)新clicktek技術(shù)全面提升用戶(hù)分析體驗(yàn),使色譜柱的安裝和儀器維護(hù)進(jìn)入徒手時(shí)代。檢測(cè)器靈敏度較之上一代產(chǎn)品有了進(jìn)一步提升,可以進(jìn)行高可靠性和高精度的痕量分析,使重現(xiàn)性更勝一籌。柱溫箱功能全面優(yōu)化,使用效率有顯著提升的同時(shí)還使能耗有效降低。根據(jù)需求定制化系統(tǒng)更可以滿(mǎn)足個(gè)性化分析訴求。
更新時(shí)間:2024-10-21
賽默飛 Axia ChemiSEM 智能型鎢燈絲掃描電鏡
全新一代axiachemisem掃描電鏡,采用獨(dú)特方法進(jìn)行樣品成分信息的采集、處理和展示;依托先進(jìn)鏡筒技術(shù),保持系統(tǒng)始終處于最佳狀態(tài),可聚焦樣品采集數(shù)據(jù),隨時(shí)提供高質(zhì)量圖像;采用全開(kāi)門(mén)式設(shè)計(jì),耐用性和靈活性更高;可搭載多款掃描電鏡軟件實(shí)現(xiàn)多種自動(dòng)化功能;簡(jiǎn)約化設(shè)計(jì),全方面性能出色,可表征各種不同類(lèi)型材料,提供最全面的信息。其成像平臺(tái)即時(shí)可用,集成獨(dú)特的實(shí)時(shí)定量能譜面分析功能,成像即刻并融合成分信息,專(zhuān)為快速分析而設(shè)計(jì),操作輕松自如。
更新時(shí)間:2024-10-21
哈希DR3900 臺(tái)式可見(jiàn)光分光光度計(jì)
該臺(tái)式可見(jiàn)光分光光度計(jì)具有直觀的彩色觸摸屏操作界面,并可直接在屏幕上顯示哈希程序的操作提示。加上直觀的量程柱狀圖顯示,比色皿的自動(dòng)識(shí)別和錯(cuò)誤報(bào)警,以及新增的aqa功能等人性化設(shè)計(jì)都能為您帶來(lái)全新的使用體驗(yàn),減少了再次確認(rèn)的額外工作,讓客戶(hù)對(duì)測(cè)試結(jié)果更有信心。dr3900臺(tái)式可見(jiàn)光分光光度計(jì)是市場(chǎng)上唯一既能夠涵蓋監(jiān)管要求鏈、又能與在線(xiàn)儀器之間很好地關(guān)聯(lián)起來(lái)??蓮V泛應(yīng)用于工業(yè),市政,環(huán)保,教育等領(lǐng)域
更新時(shí)間:2024-10-21
LSC-5000 (AD) 全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(lsc)系統(tǒng),用于最先進(jìn)的無(wú)損兆聲清洗??梢赃m用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片,包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到最優(yōu)化的清洗效果,兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專(zhuān)利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面,通過(guò)分布能量的最大化支持最理想的清洗,同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時(shí)間:2024-10-21
NTE-4000 (M) 熱蒸發(fā)系統(tǒng)
nte-4000(m)熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述:nano-masternte-4000是一款pc計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計(jì)經(jīng)過(guò)非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實(shí)現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過(guò)程。
更新時(shí)間:2024-10-21
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
npe-3500pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述:nano-masterpecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2,si3n4,或dlc薄膜到最大可達(dá)12”直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來(lái)產(chǎn)生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過(guò)rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。
更新時(shí)間:2024-10-21
NPC-4000 (M) 等離子清洗機(jī)
plasmacleaner等離子清洗機(jī)npc-4000(m)等離子清洗機(jī)概述:nano-master等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用來(lái)滿(mǎn)足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無(wú)二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說(shuō)可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。np
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó) 那諾-馬斯特 NRE-3500 (A) 全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)
rie反應(yīng)離子刻蝕機(jī)nre-3500(a)全自動(dòng)rie反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述:獨(dú)立式rie反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷rf樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持最大到12"的晶圓片。
更新時(shí)間:2024-10-21
荷蘭4PICO 大幅面無(wú)掩模激光直寫(xiě)光刻機(jī)PicoMaster XF 500-H
picomasterxf500-h是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫(xiě)設(shè)備,它具有每毫米超過(guò)1200條線(xiàn)的輸出能力,特別適合用戶(hù)在光敏層上自由地創(chuàng)造微結(jié)構(gòu)。獨(dú)有的全息設(shè)計(jì)軟件,提供了許多預(yù)先安裝的全息效果及其光柵、結(jié)構(gòu)的運(yùn)算方法,它們可以很輕松地將把這些效果組合起來(lái),十分利于用戶(hù)的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)。同時(shí)軟件也允許用戶(hù)添加自己的算法和結(jié)構(gòu),來(lái)定制數(shù)據(jù)庫(kù)、完善產(chǎn)品設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間:2024-10-21
荷蘭4PICO  激光直寫(xiě)光刻機(jī) PicoMaster200
picomaster200無(wú)掩模激光直寫(xiě)光刻機(jī)●250納米分辨率(375納米激光源)●300納米分辨率(405納米激光源)●4095灰階●業(yè)界最具實(shí)力的成套全息設(shè)計(jì)軟件●最大230x230毫米基板尺寸picomaster200是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫(xiě)入器,專(zhuān)為用戶(hù)提供在感光層中創(chuàng)建最高自由度的微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó) 5000-EC Series UV Curing 紫外面光源
dymax5000-ec系列紫外光固化面光源適用于固化光強(qiáng)需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)8006
品牌:恩科優(yōu)(n&q)型號(hào):nxq800-6產(chǎn)地:美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中,n&q8000系列光刻機(jī)是以自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性,超高的分辨率,均勻的光學(xué)系統(tǒng),現(xiàn)代先進(jìn)的接近式和接觸式光刻及超高的性?xún)r(jià)比,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國(guó)各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統(tǒng)的首選。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)4008
品牌:恩科優(yōu)(n&q)型號(hào):nxq400-8產(chǎn)地:美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中,n&q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性,超高的分辨率,均勻的光學(xué)系統(tǒng),現(xiàn)代先進(jìn)的接近式和接觸式光刻及超高的性?xún)r(jià)比,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國(guó)各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統(tǒng)的首選。
更新時(shí)間:2024-10-21
 荷蘭 真空快速退火爐 AS-One100/150
真空快速退火爐as-oneas-one是一種通用的rtp系統(tǒng),可用于開(kāi)發(fā)快速熱退火和快速熱cvd工藝??梢源钆浞肿颖脤?shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。最高溫度1500℃,最快升溫速率200℃/second。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó) Micromanipulator探針臺(tái) P200L/4060/PM450
p200l半自動(dòng)探針臺(tái)?200毫米半自動(dòng)晶圓探針臺(tái)。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)蝕刻和剝離系統(tǒng) CESx124
這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專(zhuān)為滿(mǎn)足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó) 紫外臭氧清洗機(jī)UVO系列 T10x10/OES
紫外臭氧清洗工作原理:清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈,產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線(xiàn)。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生,有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長(zhǎng)紫外線(xiàn)后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體,比如co2,h2o等。整個(gè)過(guò)程在室溫**發(fā)生,并且只需要1到幾分鐘完成。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)FALD原子層沉積系統(tǒng)    AT-600
原子層沉積(atomiclayerdeposition)是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒?。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原子層沉積過(guò)程中,新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的,這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。
更新時(shí)間:2024-10-21
法國(guó) JFP Model S100鍵合機(jī)
適用于3英寸晶圓的劃片劃片機(jī)100是一款獨(dú)特的設(shè)備,設(shè)計(jì)用于劃分精密模具,例如gaas和硅芯片。劃片機(jī)100非常靈活,使用劃線(xiàn)和斷裂順序,使成品模具保持清潔,不受損壞。
更新時(shí)間:2024-10-21

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