大氣顆粒物采樣器產(chǎn)品及廠家
荷蘭lumicks超分辨單分子動(dòng)力分析儀（熒光光鑷）c-trap，是上款將光鑷、共聚焦或sted超分辨顯微鏡和微流控系統(tǒng)結(jié)合的單分子操控儀器。c-trap通過高度聚焦激光束產(chǎn)生的力來操作納米/微米顆粒，實(shí)現(xiàn)了對(duì)生物分子的單分子操縱，并且結(jié)合力學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)和
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)應(yīng)用生物系統(tǒng)公司abi高產(chǎn)率熒光定量pcr儀viia7,集高性能熒光定量pcr儀的先進(jìn)性能于一身,實(shí)現(xiàn)了無與倫比的可重復(fù)性，孔間差異、批間差異、不同儀器間差異降至低。儀器可與標(biāo)準(zhǔn)96孔板，快速96孔板，384孔及taqman微流體芯片和各種試劑完全兼容，在任何規(guī)模的實(shí)驗(yàn)室均可實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)率熒光定量pcr。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)abi應(yīng)用生物系統(tǒng)數(shù)字pcr儀quantstudio3d是一款基于芯片的儀器,它能夠?qū)δ繕?biāo)dna分子做出絕對(duì)定量并且提供了無與倫比的準(zhǔn)確度，精密度和靈敏度。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)bio-rad轉(zhuǎn)基因儀基因槍系統(tǒng)helios,是一種方便的手提式設(shè)備，可對(duì)細(xì)胞進(jìn)行快速直接的原位基因轉(zhuǎn)移。該系統(tǒng)通過可調(diào)節(jié)的氦氣脈沖，來帶動(dòng)位于小塑料管內(nèi)壁處預(yù)包有dna、rna或其它生物材料的金粉顆粒，將其直接打入細(xì)胞內(nèi)部。使用樣品管制備站可很容易地制備管內(nèi)“子彈”。
更新時(shí)間:2024-10-21
日立hitachi掃描電鏡flexsem1000,小巧性能優(yōu)異的鎢燈絲電鏡，擁有大束流和低球差的物鏡和聚光鏡設(shè)計(jì)，配備了高分辨率二次電子探頭及高靈敏度五分割背散射探頭，具有卓越的低真空成像能量，并且采用新的semmap高精度導(dǎo)航系統(tǒng)及新全的自動(dòng)化功能，使性能更加優(yōu)越，使用更加簡(jiǎn)便。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)molecular光吸收型酶標(biāo)儀spectramax190,全波長(zhǎng)、多通道微孔板檢測(cè)儀-spectramax190光吸收型酶標(biāo)儀,紫外-可見光吸收讀板機(jī)，波長(zhǎng)范圍190-850nm，光學(xué)系統(tǒng)由8個(gè)配備獨(dú)立樣品檢測(cè)器和8個(gè)參照檢測(cè)的組成，速度和精度雙重保障，0-4.0od的檢測(cè)范圍，可做終點(diǎn)法、動(dòng)力學(xué)、光譜掃描。
更新時(shí)間:2024-10-21
賽默飛exploris480作為革命性全新一代組合型超高分辨質(zhì)譜系統(tǒng)，賽默飛themoscientific高分辨質(zhì)譜儀orbitrapexploris480占用的空間更小，同時(shí)保持了高分辨率、高質(zhì)量精度和圖譜質(zhì)量。新儀器具有很多新特性，可以延長(zhǎng)正常運(yùn)行時(shí)間，并在高通量分析試驗(yàn)中提高超強(qiáng)穩(wěn)定性。其結(jié)合成熟的技術(shù)，先進(jìn)的功能和智能驅(qū)動(dòng)分析框架為研究科學(xué)家更廣泛應(yīng)用質(zhì)譜進(jìn)行高通量的蛋白質(zhì)鑒定、定量和結(jié)構(gòu)表征。全新的surequant及boxcar方法包為超敏感目標(biāo)蛋白定量提供強(qiáng)大助力
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)allresist正電子束光刻膠ar-p6200(csar62)，高分辨率，用于生產(chǎn)集成電路和掩模的高對(duì)比度電子束電阻。電子束;層thickn。0,05-1,6evm(6000-1000rpm)，高靈敏度，可通過開發(fā)人，高分辨率(<10nm)和非常高的對(duì)
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)allresist防護(hù)涂層pmmaelectra92(ar-pc5090)，用于非氮基電子束電阻的導(dǎo)電保護(hù)涂層，用于在絕緣襯底上耗散電子束電荷的頂層。
更新時(shí)間:2024-10-21
microchem光刻膠su-82000系列永久性環(huán)氧負(fù)性光刻膠:su-82025,su-82035,su-82050,su-82075，su-82000是一種高對(duì)比度的環(huán)氧樹脂基光刻膠，適用于微加工和其他微電子應(yīng)用域，需要厚、化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。su-82
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)allresist正電子束光刻膠ar-p610系列，用于納米光刻的ar-p617電子束電阻，共聚物抗蝕劑系列用于生產(chǎn)集成電路和掩模。
更新時(shí)間:2024-10-21
英國(guó)emresist電子束光刻膠smlresist,sml50,sml100,sml300,sm600,sml1000,sml2000
更新時(shí)間:2024-10-21
e-beam電子束光刻膠：hsqxr-1541-006,z520,pmma,。ebl6000系列，ma-n2400系列。納米壓印膠：mr-nil6000e,mr-l900m,mr-uvcur21。光固化膠：ormo系列。
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)allresist特殊工藝用光刻膠，電子束曝光導(dǎo)電膠，耐酸堿保護(hù)膠，聚酰亞胺膠（耐高溫保護(hù)膠），全息光刻用膠，長(zhǎng)波曝光膠，深紫外曝光膠等特殊工藝用膠。
更新時(shí)間:2024-10-21
德國(guó)allresist電子束光刻膠（電子束抗蝕劑）e-beamresist電子束正膠：pmma膠，pmma/ma聚合物，liga用膠等。電子束負(fù)膠：高分辨率電子束負(fù)膠，化學(xué)放大膠（高靈敏度電子束膠）等。
更新時(shí)間:2024-10-21
美國(guó)rkd化學(xué)開封機(jī)eliteetch7000機(jī)器尺寸(mm)：190x320x305溫度范圍1)發(fā)煙硫酸：25c-250c2)發(fā)煙硝酸：25c-90c3)混酸：25c-100c(eliteetch)4)混酸(利)：10c-100c(eliteetchcu)抽酸流量:1-8ml/minute蝕刻頭組件:固定式碳
更新時(shí)間:2024-10-21
eppendorf5810/5810r離心機(jī)以其一貫品質(zhì)和可靠性能，為您中等到高通量離心提供最佳解決方案。5810/5810r離心機(jī)不僅具有功能多和容量大的基本特點(diǎn)，而且占地面積小，可以離心各類試管和工作板。
更新時(shí)間:2024-10-21
wiggens離心機(jī)全部由德國(guó)oem工廠按照設(shè)計(jì)要求定制生產(chǎn)。德國(guó)工廠具有30多年專業(yè)生產(chǎn)離心機(jī)和其它生物科學(xué)產(chǎn)品的經(jīng)驗(yàn)，擁有多項(xiàng)相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的專利。wiggens離心機(jī)產(chǎn)品齊全，型號(hào)多樣，叢小型臺(tái)式離心機(jī)到大型落地式離心機(jī)，最高轉(zhuǎn)速達(dá)16500rpm，最大容量可達(dá)3l，多種角轉(zhuǎn)子、水平轉(zhuǎn)子、垂直轉(zhuǎn)子可選。
更新時(shí)間:2024-10-21
qsight三重四極桿液質(zhì)聯(lián)用儀具有自清潔功能的專利設(shè)計(jì)，減少對(duì)日常維護(hù)的需求。與其他質(zhì)譜產(chǎn)品相比，可獲得更多的儀器運(yùn)行時(shí)間（35天/年）。采用雙離子源的設(shè)計(jì)，避免了多路聯(lián)用方法開發(fā)的復(fù)雜性，擁有更短的樣品運(yùn)行時(shí)間，從而提高了生產(chǎn)效率。同時(shí)，利用真空壓力差產(chǎn)生層流傳輸離子，具有更好的靈敏度和系統(tǒng)穩(wěn)定性，從而無需樣品濃縮，并獲得更高的重現(xiàn)性。
更新時(shí)間:2024-10-21
xevotq-s為最嚴(yán)苛的uplc/ms/ms定量應(yīng)用而設(shè)計(jì)。串聯(lián)四極桿質(zhì)譜儀的終極性能讓使用xevo平臺(tái)的所有人獲得無可比擬的靈敏度和穩(wěn)定性。
更新時(shí)間:2024-10-21
thermoscientifictmtsqquantumultratm是賽默飛設(shè)計(jì)精良的經(jīng)典三重四極桿質(zhì)譜儀，集定量分析所需求的靈敏度、選擇性和重復(fù)性于一體？捎糜谑称、生物基質(zhì)等復(fù)雜體系痕量成分的準(zhǔn)確定量，是tsqquantum家族中的高端產(chǎn)品。
更新時(shí)間:2024-10-21
離子色譜分析系統(tǒng)（ic-2010）采用了東曹自行開發(fā)的凝膠抑制方式，是搭載了自動(dòng)進(jìn)樣器的一體化高性能離子色譜儀分析系統(tǒng)。簡(jiǎn)單的操作系統(tǒng)與專用高分辨率色譜柱的完美結(jié)合，可以高速，高靈敏度并且簡(jiǎn)便地測(cè)定陰離子和陽(yáng)離子。此外，配備的專用系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)解析的離子色譜工作站，更提供了極為簡(jiǎn)便地儀器控制功能以及高可信度的測(cè)定環(huán)境。
更新時(shí)間:2024-10-21
thermoscientificdionexics-5000+hpic高壓離子色譜：世界上首款毛細(xì)管高壓、“只加水”離子色譜系統(tǒng)。全新的模塊設(shè)計(jì)具有極大的靈活性、功能更全面，操作更簡(jiǎn)便，其完美卓越的性能將色譜分析帶入一個(gè)新的更高境界，分辨率更佳，分析速度更快。通過毛細(xì)管系統(tǒng)以及分析系統(tǒng)整合組成的ics-5000+高壓離子色譜系統(tǒng)，能應(yīng)對(duì)未來潛在的挑戰(zhàn)以及高級(jí)應(yīng)用，該系統(tǒng)提高了工作效率，擴(kuò)展了工作能力、提高了色譜性能。
更新時(shí)間:2024-10-21
940系列譜峰思維tm離子色譜儀的出現(xiàn)，標(biāo)志著離子色譜新時(shí)代的到來。該系列離子色譜儀在保障非常好系統(tǒng)可靠性和非常簡(jiǎn)便儀器可操作性的同時(shí)，還為客戶提供非常靈活的系統(tǒng)定制方案。它是迄今非常靈活、可信、簡(jiǎn)便的離子色譜系統(tǒng)。
更新時(shí)間:2024-10-21
thermoscientificdionexintegrion（in）hpic，系統(tǒng)采用viper接頭、合理的流式管路布局和靈活配置，專門圍繞實(shí)驗(yàn)室中的流程難題而直觀設(shè)計(jì)、精心打造。高效dionexionpac4μm離子色譜柱。更高分辨率、更快分析速度挑戰(zhàn)分離極限。小顆？梢栽谳^寬的流速范圍內(nèi)提供更高的柱效。
更新時(shí)間:2024-10-21
uplc技術(shù)，作為高度穩(wěn)定、可靠、重現(xiàn)性好的分離技術(shù)，已經(jīng)成功地在全世界各大實(shí)驗(yàn)室的各種苛刻分析領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用。
更新時(shí)間:2024-10-21
島津長(zhǎng)久以來一直致力于提高h(yuǎn)plc的分析性能。同時(shí)，島津認(rèn)識(shí)到，整體效率不僅取決于某一臺(tái)儀器的性能，更需要統(tǒng)籌管理實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的所有設(shè)備。如今，在這個(gè)將人工智能（ai）整合到儀器設(shè)備中的時(shí)代，島津解決方案切實(shí)實(shí)現(xiàn)了真正意義上自動(dòng)檢測(cè)。此外，通過物聯(lián)網(wǎng)（iot）與儀器設(shè)備進(jìn)行網(wǎng)絡(luò)化集成，將使實(shí)驗(yàn)室管理變得更加直觀，儀器狀態(tài)確認(rèn)更加簡(jiǎn)便，資源配置得以更加優(yōu)化。
更新時(shí)間:2024-10-21
“chromaster”是一個(gè)新造詞，取自英文單詞chromatograph（色譜）和master（大師）。這個(gè)詞表達(dá)了日立公司的一個(gè)美好愿景，那就是開發(fā)和提供一套頂級(jí)的、性能卓越的液相色譜系統(tǒng)。作為一個(gè)強(qiáng)有力的工具，它將為那些受過專業(yè)訓(xùn)練、“大師級(jí)”的色譜工作者做出更大貢獻(xiàn)！
更新時(shí)間:2024-10-21
具備集成智能功能的agilent7890b氣相色譜系統(tǒng)以安捷倫40多年的氣相色譜經(jīng)驗(yàn)為基礎(chǔ)。7890b氣相色譜系統(tǒng)的先進(jìn)功能可幫助用戶在更短的時(shí)間內(nèi)獲得更多的分析結(jié)果，其高質(zhì)量設(shè)計(jì)和可靠性可保證系統(tǒng)在未來數(shù)年內(nèi)始終處于高性能水平。
更新時(shí)間:2024-10-21
ellutia新型快速氣相色譜儀，采用專利的毛細(xì)管柱直接加熱技術(shù)，無需配備柱溫箱，即可實(shí)現(xiàn)色譜柱的快速加熱和冷卻效果。與傳統(tǒng)氣相色譜以“分”來計(jì)算運(yùn)行時(shí)間不同，這是一種真正意義上的快速氣相色譜，運(yùn)行時(shí)間可用“秒”來計(jì)算！
更新時(shí)間:2024-10-21
agilentintuvo9000氣相色譜系統(tǒng)徹底改變了用戶執(zhí)行氣相色譜分析的方式，開辟了全面提高運(yùn)行效率和業(yè)務(wù)成果的新途徑。intuvo秉承了安捷倫氣相色譜的卓越性能和穩(wěn)定性，并采用重要的關(guān)鍵創(chuàng)新技術(shù)，一舉打破了現(xiàn)有的重重操作限制，大大簡(jiǎn)化了操作、降低了運(yùn)行成本并延長(zhǎng)了儀器的正常運(yùn)行時(shí)間。
更新時(shí)間:2024-10-21
nexisgc-2030氣相色譜儀配備了全新智能交互界面，僅需觸屏即可完成儀器操作并可以實(shí)時(shí)了解儀器運(yùn)行狀態(tài)。創(chuàng)新clicktek技術(shù)全面提升用戶分析體驗(yàn)，使色譜柱的安裝和儀器維護(hù)進(jìn)入徒手時(shí)代。檢測(cè)器靈敏度較之上一代產(chǎn)品有了進(jìn)一步提升，可以進(jìn)行高可靠性和高精度的痕量分析，使重現(xiàn)性更勝一籌。柱溫箱功能全面優(yōu)化，使用效率有顯著提升的同時(shí)還使能耗有效降低。根據(jù)需求定制化系統(tǒng)更可以滿足個(gè)性化分析訴求。
更新時(shí)間:2024-10-21
全新一代axiachemisem掃描電鏡，采用獨(dú)特方法進(jìn)行樣品成分信息的采集、處理和展示；依托先進(jìn)鏡筒技術(shù)，保持系統(tǒng)始終處于最佳狀態(tài)，可聚焦樣品采集數(shù)據(jù)，隨時(shí)提供高質(zhì)量圖像；采用全開門式設(shè)計(jì)，耐用性和靈活性更高；可搭載多款掃描電鏡軟件實(shí)現(xiàn)多種自動(dòng)化功能；簡(jiǎn)約化設(shè)計(jì)，全方面性能出色，可表征各種不同類型材料，提供最全面的信息。其成像平臺(tái)即時(shí)可用，集成獨(dú)特的實(shí)時(shí)定量能譜面分析功能，成像即刻并融合成分信息，專為快速分析而設(shè)計(jì)，操作輕松自如。
更新時(shí)間:2024-10-21
該臺(tái)式可見光分光光度計(jì)具有直觀的彩色觸摸屏操作界面，并可直接在屏幕上顯示哈希程序的操作提示。加上直觀的量程柱狀圖顯示，比色皿的自動(dòng)識(shí)別和錯(cuò)誤報(bào)警，以及新增的aqa功能等人性化設(shè)計(jì)都能為您帶來全新的使用體驗(yàn)，減少了再次確認(rèn)的額外工作，讓客戶對(duì)測(cè)試結(jié)果更有信心。dr3900臺(tái)式可見光分光光度計(jì)是市場(chǎng)上唯一既能夠涵蓋監(jiān)管要求鏈、又能與在線儀器之間很好地關(guān)聯(lián)起來？蓮V泛應(yīng)用于工業(yè)，市政，環(huán)保，教育等領(lǐng)域
更新時(shí)間:2024-10-21
nano-master提供兆聲單晶圓&掩模清洗(lsc)系統(tǒng)，用于最先進(jìn)的無損兆聲清洗？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。nano-master的專利技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
更新時(shí)間:2024-10-21
nte-4000（m）熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：nano-masternte-4000是一款pc計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計(jì)經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實(shí)現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程。
更新時(shí)間:2024-10-21
npe-3500pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-masterpecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2,si3n4,或dlc薄膜到最大可達(dá)12”直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。
更新時(shí)間:2024-10-21
plasmacleaner等離子清洗機(jī)npc-4000（m）等離子清洗機(jī)概述：nano-master等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。np
更新時(shí)間:2024-10-21
rie反應(yīng)離子刻蝕機(jī)nre-3500（a）全自動(dòng)rie反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述：獨(dú)立式rie反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷rf樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持最大到12"的晶圓片。
更新時(shí)間:2024-10-21
picomasterxf500-h是一款具有超高精度的多功能紫外激光直寫設(shè)備，它具有每毫米超過1200條線的輸出能力，特別適合用戶在光敏層上自由地創(chuàng)造微結(jié)構(gòu)。獨(dú)有的全息設(shè)計(jì)軟件，提供了許多預(yù)先安裝的全息效果及其光柵、結(jié)構(gòu)的運(yùn)算方法，它們可以很輕松地將把這些效果組合起來，十分利于用戶的產(chǎn)品開發(fā)。同時(shí)軟件也允許用戶添加自己的算法和結(jié)構(gòu)，來定制數(shù)據(jù)庫(kù)、完善產(chǎn)品設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間:2024-10-21
picomaster200無掩模激光直寫光刻機(jī)●250納米分辨率（375納米激光源）●300納米分辨率（405納米激光源）●4095灰階●業(yè)界最具實(shí)力的成套全息設(shè)計(jì)軟件●最大230x230毫米基板尺寸picomaster200是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫入器，專為用戶提供在感光層中創(chuàng)建最高自由度的微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間:2024-10-21
dymax5000-ec系列紫外光固化面光源適用于固化光強(qiáng)需求高、固化速度高的紫外光膠粘劑、涂層和油墨。
更新時(shí)間:2024-10-21
品牌：恩科優(yōu)（n&q）型號(hào)：nxq800-6產(chǎn)地：美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，n&q8000系列光刻機(jī)是以自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代先進(jìn)的接近式和接觸式光刻及超高的性價(jià)比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國(guó)各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的首選。
更新時(shí)間:2024-10-21
品牌：恩科優(yōu)（n&q）型號(hào)：nxq400-8產(chǎn)地：美國(guó)恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中，n&q4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代先進(jìn)的接近式和接觸式光刻及超高的性價(jià)比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國(guó)各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的首選。
更新時(shí)間:2024-10-21
真空快速退火爐as-oneas-one是一種通用的rtp系統(tǒng)，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱cvd工藝？梢源钆浞肿颖脤(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。最高溫度1500℃，最快升溫速率200℃/second。
更新時(shí)間:2024-10-21
p200l半自動(dòng)探針臺(tái)?200毫米半自動(dòng)晶圓探針臺(tái)。
更新時(shí)間:2024-10-21
這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。
更新時(shí)間:2024-10-21
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