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美國 KRI 霍爾離子源 eH 系列緊湊設計, 高電流低能量寬束型離子源, 提供原子等的細微加工能力, 霍爾離子源 eH 可以以納米精度來處理薄膜及表面, 多種型號滿足科研及工業(yè), 半導體應用. 霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設計提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護. 霍爾離子源 eH 提供一套完整的方案包含離子源, 電子中和器, 電源供應器, 流量控制器 MFC 等等可以直接整合在各類真空設備中, 例如鍍膜機, load lock, 濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機等.美國 KRI 霍爾離子源 eH 特性無柵高電流低能量發(fā)散光束 >45可快速更換陽模塊可選 Cathode / Neutralize 中和器美國 KRI 霍爾離子源 eH 主要應用輔助鍍膜 IBAD濺鍍&蒸鍍 PC表面改性、激活 SM沉積 (DD)離子蝕刻 LIBE光學鍍膜Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

例如1. 離子輔助鍍膜及電子槍蒸鍍2. 線上式磁控濺射及蒸鍍設備預清洗3. 表面處理4. 表面硬化層鍍膜5. 磁控濺射輔助鍍膜7. 偏壓離子束磁控濺射鍍膜

霍爾離子源 eH 系列在售型號:

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.若您需要進一步的了解 KRI 霍爾離子源, 請參考以下聯(lián)絡方式上海伯東: 葉小姐                                  臺灣伯東: 王小姐T: +86-21--3511 ext 109             T: +886-3--9508 ext 161F: +86-21--                          F: +886-3--0049M: +86 -883-                       M: +886---958上海伯東版權所有, 翻拷必究！

上海滬宇是一家技術服務型渠道企業(yè),在行業(yè)發(fā)展中所承擔的角色是一種溝通產(chǎn)出方和需求方(科研和市場)的媒介，我們?yōu)樾袠I(yè)人才提供了包括科研在內(nèi)的更多出口，為科研提供了有力的硬件支持，地促進科研和市場需求結合，提高了科研成果的轉化效率，使得科研更具活力。目前國家對于生物行業(yè)的發(fā)展給予了極大的重視，但更多地側重于科研的投入，行業(yè)內(nèi)缺乏的技術服務體系和渠道支撐。詳細信息請登錄www.huyusw.com網(wǎng)站查詢，也可來電在線咨詢！

產(chǎn)品名稱：2-硝基苯基正辛醚[快原子轟擊質(zhì)譜和二次離子質(zhì)譜儀的基質(zhì)]                                            

產(chǎn)品編號：K7373201

CAS號：37682-29-4

規(guī)格：TCI

包裝：5ml

上海滬宇生物試劑產(chǎn)品：

C109740250   2-氯-5-硝基吡啶  Acros 25gTC092301   2-氯-5-硝基三氟甲苯  TCI 25gxw010085   2-氯-5-溴吡啶  98％(沃凱) 1gTA195901   2-氯-6-  TCI 25gL1124902  57264-46-7 2-氯-6-甲基芐胺, 97%  Lancaster 5gxw010086   2-氯-6-三氟甲基吡啶  98％(沃凱) 1gLB2402903   2-氯-P-苯二胺硫酸鹽  Alfa-B24029 250gTC171901   2-氯苯并咪唑  TCI 5g80034828 95-57-8 2-氯苯酚  CP 500mlLA1190001   2-氯苯甲基氯, 98％  Alfa-A11900 250gAC2479501   2-氯苯甲腈  Aldrich 98％ 100gL0695201   2-氯苯甲醚，98％  Lancaster 50g30038782 89-98-5 2-氯苯甲醛  進分 100ml

K7373201  37682-29-4 2-硝基苯基正辛醚[快原子轟擊質(zhì)譜和二次離子質(zhì)譜儀的基質(zhì)]  TCI 5ml