等離子清洗器產(chǎn)品及廠家
benchplasmacleaner小型等離子清洗系統(tǒng)pdc32g和pdc002hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備域當(dāng)之無愧的先者，我們?yōu)閷嶒炇已邪l(fā)提供性價比高的小型等離子清洗設(shè)備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗。harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍：*清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
更新時間:2024-10-21
nano indenter g200x提供了一種易于使用的納米機械測試儀，可快速提供準(zhǔn)確的定量結(jié)果。g200x系統(tǒng)處理從硬涂層到軟聚合物的各種樣品，并提供kla儀器納米壓痕儀產(chǎn)品線中全面的測試套件。
更新時間:2024-10-21
光刻機又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機等；美國公司為全球先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技域；該公司是目上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。
更新時間:2024-10-21
原子層沉積系統(tǒng)atomic layer deposition system 產(chǎn)地：美國angstrom；型號：angstrom dep ii, angstrom dep
更新時間:2024-10-21
vpg+800 / vpg+1100 / vpg+1400大尺寸超高速圖形發(fā)生器the multi-purpose volume pattern generators
更新時間:2024-10-21
nanofrazor scholar適合科研域的中小型實驗凈房與納米加工的學(xué)術(shù)研究域thermal scanning probe lithography toolwith in-situ imaging and grayscale patterning capabilities
更新時間:2024-10-21
mpo 100雙光子聚合 (tpp) 多用途工具multi-user tool for 3d lithography and 3d microprinting
更新時間:2024-10-21
jem-2800是日本電子透射電子顯微鏡系列中的一款特殊設(shè)計的產(chǎn)品，在兼顧高分辨高穩(wěn)定性的同時，求分析效率的大化和操作的自動化。顛覆傳統(tǒng)的電鏡外觀設(shè)計，除了讓人耳目一新外，還對設(shè)置環(huán)境更具抗干擾能力。
更新時間:2024-10-21
016年新年伊始，日本電子株式會社（jeol）即全球同步推出了新款場發(fā)射透射電鏡jem-f200。 為了全面整合近年發(fā)展起來的透射電鏡上的各種功能，jem-f200進行了全新設(shè)計，在保障各種功能達到限的同時，追求操作的簡單化和自動化，為用戶提供透射電鏡操作的全新體驗。
更新時間:2024-10-21
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等。可選擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時間:2024-10-21
2.6 升的low-cost-plasma-laboranlage zepto 為手動型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時間:2024-10-21
德國diener electronic gmbh + co. kg公司成立于1993年，業(yè)從事等離子表面處理設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)， diener等離子清洗機可用于清洗、刻蝕、磨砂和表面準(zhǔn)備等?？蛇x擇40khz/80khz/100khz、13.56mhz和2.45ghz三種射頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果需要。
更新時間:2024-10-21
10.5 升的low-cost-plasma-laboranlage atto 為手動型，配有 pc 和 pcce 控制系統(tǒng)。
更新時間:2024-10-21
德國diener electronic成立于1993年，是低溫等離子工業(yè)的導(dǎo)者，是一家門研發(fā)和制造低溫低壓等離子清洗機、等離子射頻電源和大氣（常壓）等離子清洗機的高科技企業(yè)。
更新時間:2024-10-21
pico 等離子設(shè)備能夠以不同的形式進行整合，例如以模塊系統(tǒng)的形式。在下文中您可以大致了解能夠與 pico 等離子系統(tǒng)一同使用的常見的選裝件。
更新時間:2024-10-21
等離子體處理指示卡是指使用了根據(jù)等離子體中的活性種（自由基、離子）變色的功能性色料的評價工具。根據(jù)等離子體的強度會產(chǎn)生不同的顏色變化，可以很直觀的對等離子體處理效果進行細致的評價。
更新時間:2024-10-21
型號:jy-36ln材質(zhì);鋁合金類別;清潔輔助工具配件是否定制;是是否進口;否產(chǎn)地;江蘇功能用途;表面處理顏色;白色操作系統(tǒng);pls定制觸摸屏;15寸品牌;plaux
更新時間:2024-10-21
型號: plaux-pts-2d產(chǎn)地: 中國大陸顏色分類: 黑色
更新時間:2024-10-21
主機尺寸：w510*d400*h258mm主機重量：25kg電機結(jié)構(gòu)：定制型水平電工作真空度：20-60pa
更新時間:2024-10-21
材質(zhì):鋁合金/不銹鋼電壓:220vv頻率:20khzhz型號:st-d01用途:表面清潔及改善主機重量:20kg電源功率:800va規(guī)格:280*500*400mmmm
更新時間:2024-10-21
型號:pm-210ln 規(guī)格:1200*950*2100mm用途:表面清潔及改善 操作系統(tǒng):windows10材質(zhì):鋁合金｛標(biāo)配｝/不銹鋼｛可選｝托架:一層 頻率:15kw機臺供電:三相五線式電壓:380v 品牌:普樂斯/plaux
更新時間:2024-10-21
電壓:200v型號:pts-2000重量:20kg規(guī)格:280*500*400mm用途:表面處理適用范圍:fpc/pcb、工業(yè)涂裝、汽車配件電源功率:800va
更新時間:2024-10-21
規(guī)格：1200*950*2100mm加工定制：是用途：表面清潔及改善操作系統(tǒng)：windows10材質(zhì)：鋁合金｛標(biāo)配｝/不銹鋼｛可選｝托架：一層頻率：15kw機臺供電：三相五線式電壓：380v品牌：普樂斯/plaux
更新時間:2024-10-21
型號: rte-1000l產(chǎn)地: 中國大陸省份: 江蘇省顏色分類: 白色是否可定制: 是
更新時間:2024-10-21
型號: ryc-10000產(chǎn)地: 中國大陸省份: 江蘇省地市: 蘇州市顏色分類: 白色用途: 表面清潔及改善操作系統(tǒng): 15kw機臺供電: 三相五線式
更新時間:2024-10-21
品牌: 普樂斯型號: pts-2000產(chǎn)地: 中國大陸省份: 江蘇省地市: 蘇州市顏色分類: 咖啡色
更新時間:2024-10-21
電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)是普勒新世紀(jì)實驗按照普洛帝分析儀器事業(yè)部的規(guī)劃，于2001年推向市場的成熟系統(tǒng)儀器；觀察顆粒形貌，還可以得到粒度分布、數(shù)量、大小、平均長徑比以及長徑比分布等，為科研、生產(chǎn)域增添了一種新的粒度測試手段；電子半導(dǎo)體圖像法清潔度分析系統(tǒng)為一種圖像法粒度分布測試以及顆粒型貌分析等多功能顆粒分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括光學(xué)顯微鏡、圖像測試。
更新時間:2024-10-14
hk-ltps100a低溫等離子體滅菌系統(tǒng)是新代醫(yī)用滅菌設(shè)備，采用過氧化氫低溫等離子體滅菌技術(shù)?？梢詫Σ荒蜐駸岬钠餍颠M行低溫快速滅菌。特別是對醫(yī)用電子器械（如骨科電鋸、電鉆、高頻電刀導(dǎo)線、電池等）和非金屬類（如導(dǎo)管、光纖窺鏡、硅橡膠制等）物的滅菌，具有顯著的優(yōu)勢。在環(huán)保、節(jié)能、低溫、快速、安全方面優(yōu)勢明顯
更新時間:2024-10-14
quickglow是經(jīng)濟實惠、易于使用、放電穩(wěn)定的一款國產(chǎn)輝光放電儀，其常見的應(yīng)用之一是用于tem載網(wǎng)表面的親水化處理
更新時間:2024-09-26
hty-30a型真空泵是設(shè)計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護等特點。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負壓抽濾方式進行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時間:2024-09-23
pie scientific注研發(fā)先進的實驗室用等離子儀器，用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是：將半導(dǎo)體和核工程研究中開發(fā)的等離子技術(shù)集成到經(jīng)濟實用的實驗室用等離子儀器。來自美國pie scientific出品的小型臺式等離子清潔儀，可以用來清潔納米樣品、蝕刻光刻膠、激活聚合物表面功能團、獲
更新時間:2024-09-14
等離子清洗機pt1000plasmatreatmentequipment等離子清洗機是一款門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設(shè)備，利用真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體去處理樣品的表面
更新時間:2024-09-11
等離子清洗機是一款門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設(shè)備，利用真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體去處理樣品的表面，達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。
更新時間:2024-09-11
來自美國pie scientific出品的等離子清潔儀基本型材料表面處理儀，可以用來清潔納米樣品、蝕刻光刻膠、激活聚合物表面功能團、獲得親水或疏水性，增強粘合強度以及可印染性、促進醫(yī)學(xué)器件生物相容性。
更新時間:2024-09-11
美國pie等離子清洗機tergeo系列臺式全自動等離子清潔儀具有清潔、灰化、刻蝕等功能，可用來清潔納米樣品，去除光刻膠，清潔晶圓和集成電路鍵合焊盤，進行煤和有機物的灰化，激活聚合物、金屬和陶瓷表面官能團，獲得表面親水性，提高鍵合強度和可印刷性，促進醫(yī)療器械生物相容性。
更新時間:2024-09-11
美國pie等離子清洗機tergeo系列臺式全自動等離子清潔儀具有清潔、灰化、刻蝕等功能，可用來清潔納米樣品，去除光刻膠，清潔晶圓和集成電路鍵合焊盤，進行煤和有機物的灰化，激活聚合物、金屬和陶瓷表面官能團，獲得表面親水性，提高鍵合強度和可印刷性，促進醫(yī)療器械生物相容性。
更新時間:2024-09-11
mycro邁可諾公司提供原裝進口等離子清洗機/表面處理儀/ppc微波等離子清洗機，請您放心選購！ppc862plasma-preenii862ppc973plasma-preenii973等離子清洗機又稱等離子體清洗機，臺式微波等離子清洗機，ppc等離子清洗機，水冷式ppe等離子蝕刻機，圓筒型ppc等離子清洗機，plasma-preen等離子清洗
更新時間:2024-09-11
harrick plasma是國際一流的等離子清洗器生產(chǎn)商，在業(yè)內(nèi)已經(jīng)有三十多年的經(jīng)驗。他所生產(chǎn)的小型等離子清洗器結(jié)構(gòu)緊湊、質(zhì)量可靠、價格合理；廣泛地被大中院校、科研機構(gòu)、企業(yè)研發(fā)機構(gòu)和實驗室采用。其產(chǎn)品主要應(yīng)用在材料科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)藥材料學(xué)、微流體研究、微電子機械系統(tǒng)研究、光學(xué)、顯微術(shù)、牙科醫(yī)療等領(lǐng)域中的污染物清除、表面活化、粘合前處理、表面化學(xué)改性、聚合物移植或表面涂覆等方面。
更新時間:2024-09-11
harrick plasma公司的等離子清洗器是一種小型化、非破壞性的超清洗設(shè)備。等離子清洗器采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗器外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。
更新時間:2024-09-11
plasma清洗機，觸摸屏控制，該清洗機內(nèi)置高純石英倉體，有效容積為500ml，結(jié)構(gòu)為國際上的通用的真空石英法蘭密封結(jié)構(gòu)。
更新時間:2024-09-09
觸摸屏滾筒等離子清洗機，kt-s2dqx-c型等離子清洗機屬于13.56mhz的射頻電源清洗。作為一種精密干法清洗設(shè)備，主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、鍍膜工藝、pcb制程、pcb制程、等
更新時間:2024-09-09
滾筒式等離子清洗機，在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達到清洗目的。
更新時間:2024-09-09
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