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真空濺射蒸鍍用品產(chǎn)品及廠家

小型真空鎢舟熱蒸鍍儀
小型真空鎢舟熱蒸鍍儀kt-z1650cvd是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動(dòng)樣品擋板，靶臺(tái)旋轉(zhuǎn)，觸摸屏多段控制，工藝儲(chǔ)存等功能。
更新時(shí)間:2024-10-22
桌面式小型蒸鍍儀
桌面式小型蒸鍍儀kt-z1650cvd，一款桌面式真空蒸鍍儀，外形小巧便于攜帶，7寸觸摸屏控制，工藝儲(chǔ)存，自動(dòng)電動(dòng)擋板保護(hù)樣品。
更新時(shí)間:2024-10-22
高低溫真空探針臺(tái)
高低溫真空探針臺(tái)kt-z160t-rl，真空高低溫探針臺(tái)系統(tǒng)，使用國(guó)際上先進(jìn)的溫度控制系統(tǒng)和傳感器，溫度范圍為77.15k至673.15k（-196攝氏度到400攝氏度），溫度穩(wěn)定性可達(dá)0.1k。
更新時(shí)間:2024-10-22
智能型HMDS預(yù)處理系統(tǒng)，HMDS蒸鍍機(jī)#推薦@2023操作系統(tǒng)
hmds預(yù)處理系統(tǒng)通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，改變了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料預(yù)處理及相關(guān)行業(yè)。
更新時(shí)間:2024-10-21
磚瓦爆裂蒸煮箱
磚瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、磚瓦爆裂蒸煮箱簡(jiǎn)介：本產(chǎn)品按照國(guó)家gb5101-85關(guān)于磚瓦石灰爆裂試驗(yàn)的要求而設(shè)計(jì)制造的。能自動(dòng)控制箱體內(nèi)水溫100℃ 的時(shí)間，溫度數(shù)顯，時(shí)間數(shù)顯，內(nèi)膽進(jìn)口不銹鋼板制作
更新時(shí)間:2024-09-06
ZSX-51 磚瓦爆裂蒸煮箱
磚瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、磚瓦爆裂蒸煮箱簡(jiǎn)介：本產(chǎn)品按照國(guó)家gb5101-85關(guān)于磚瓦石灰爆裂試驗(yàn)的要求而設(shè)計(jì)制造的。能自動(dòng)控制箱體內(nèi)水溫100℃ 的時(shí)間，溫度數(shù)顯，時(shí)間數(shù)顯，內(nèi)膽進(jìn)口不銹鋼板制作
更新時(shí)間:2024-07-31
磚瓦（石灰）爆裂蒸煮箱
磚瓦(石灰)爆裂蒸煮箱一、簡(jiǎn)介：本產(chǎn)品按照國(guó)家gb5101-85關(guān)于磚瓦石灰爆裂試驗(yàn)的要求而設(shè)計(jì)制造的。能自動(dòng)控制箱體內(nèi)水溫100℃ 的時(shí)間，溫度數(shù)顯，時(shí)間數(shù)顯，內(nèi)膽進(jìn)口不銹鋼板制作。磚瓦爆
更新時(shí)間:2024-07-21
卷繞式真空蒸鍍?cè)O(shè)備
卷繞式真空蒸鍍?cè)O(shè)備 ew系列塑料薄膜、紙、金屬箔等連續(xù)卷繞的同時(shí)，對(duì)金屬和氧化物進(jìn)行蒸鍍的成膜設(shè)備。從小型的實(shí)驗(yàn)機(jī)到大量的生產(chǎn)設(shè)備，此外，還提供一系列用于包裝材料，電容器，磁帶等其他應(yīng)用的型號(hào)。
更新時(shí)間:2024-06-27
磚瓦爆裂蒸煮箱ZSA—5A
磚瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、磚瓦爆裂蒸煮箱簡(jiǎn)介：本產(chǎn)品按照國(guó)家gb5101-85關(guān)于磚瓦石灰爆裂試驗(yàn)的要求而設(shè)計(jì)制造的。能自動(dòng)控制箱體內(nèi)水溫100℃ 的時(shí)間，溫度數(shù)顯，時(shí)間數(shù)顯，內(nèi)膽進(jìn)口不銹鋼板制作
更新時(shí)間:2024-06-25
ZSX-51 磚瓦（石灰）爆裂蒸煮箱
zsx-51磚瓦爆裂蒸煮箱 磚瓦(石灰)爆裂蒸煮箱 一、磚瓦爆裂蒸煮箱 磚瓦(石灰)爆裂蒸煮箱簡(jiǎn)介：本產(chǎn)品按照國(guó)家gb5101-85關(guān)于磚瓦石灰爆裂試驗(yàn)的要求而設(shè)計(jì)制造的。能自動(dòng)控制箱體內(nèi)水
更新時(shí)間:2024-05-13
ZKT-7F臺(tái)式真空脫氣儀
zkt-7f臺(tái)式真空脫氣儀是對(duì)蒸餾水、去離子水進(jìn)行脫氣的儀器。它可用于制藥、化工等行業(yè)。
更新時(shí)間:2024-04-07
NTE-3000 熱蒸鍍系統(tǒng)
nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：nano-master nte-3000是一款pc計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計(jì)經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實(shí)現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過程。它們具有低價(jià)格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求。 nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設(shè)定的rms電流下，或者在閉環(huán)的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)rms電流以維持恒定的沉積速度。
更新時(shí)間:2024-03-28
磁控濺射系統(tǒng)NSC-4000 (M)
nano-master杰出的濺射系統(tǒng)可構(gòu)建成多腔體和多蒸發(fā)源的配置，在介質(zhì)上濺射金屬和介質(zhì)材料，最大可支持200mm的襯底。系統(tǒng)可以配置dc直流、rf射頻和pulse dc脈沖直流等電源來進(jìn)行序列濺射或共濺射。 系統(tǒng)使用渦輪分子泵組，工藝腔極限真空可達(dá)5 x 10-7torr？梢酝ㄟ^調(diào)節(jié)靶基距，實(shí)現(xiàn)所需要的均勻度和沉積速率的調(diào)節(jié)。旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可提供薄膜最優(yōu)的均勻性。
更新時(shí)間:2024-03-28
磚瓦爆裂蒸煮箱ZSA-5A
磚瓦爆裂蒸煮箱zsa-5a一、磚瓦爆裂蒸煮箱簡(jiǎn)介：我廠生產(chǎn)磚瓦爆裂蒸煮箱，本產(chǎn)品按照國(guó)家gb5101-85關(guān)于磚瓦石灰爆裂試驗(yàn)的要求而設(shè)計(jì)制造的。能自動(dòng)控制箱體內(nèi)水溫100℃ 的時(shí)間，溫度數(shù)顯，時(shí)間數(shù)
更新時(shí)間:2023-12-12
KT-Z1650DM 小型蒸鍍儀
小型蒸鍍儀介紹：  kt-z1650dm小型蒸鍍儀是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)
更新時(shí)間:2023-10-14
KT-Z1650CVD 小型蒸鍍儀 鄭科探
小型蒸鍍儀 鄭科探kt-z1650cvd是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對(duì)大部
更新時(shí)間:2023-10-06
KT-Z1650CVD 桌面式高溫蒸鍍儀
桌面式高溫蒸鍍儀小型蒸鍍儀是一種在真空條件下加熱蒸發(fā)容器中待蒸發(fā)材料的方法，以使原子或分子蒸發(fā)并從表面逸出以形成蒸氣流，進(jìn)入基材或基材表面，然后凝結(jié)成固體膜。　　小型蒸鍍儀包括以下基本過程：　。1）
更新時(shí)間:2023-09-26
KT-Z1650CVD 高溫真空蒸鍍儀
高溫真空蒸鍍儀，是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 al. mg, 和li等。同時(shí)也可對(duì)樣品進(jìn)行鍍碳處理，z大可處理的樣品直徑為50mm.。標(biāo)準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié)，非常容易適應(yīng)各
更新時(shí)間:2023-09-17
KT-Z1650CVD 小型蒸鍍儀鄭科探
             小型蒸鍍儀鄭科探kt-z1650cvd是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電
更新時(shí)間:2023-09-09
KT-Z1650CVD 小型蒸鍍儀鄭州科探儀器
小型蒸鍍儀鄭州科探儀器kt-z1650cvd是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對(duì)
更新時(shí)間:2023-08-06
KT-1650PVD 小型蒸鍍儀
      小型蒸鍍儀小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。    小型蒸
更新時(shí)間:2023-08-04
小型蒸鍍儀鄭州科探儀器
小型蒸鍍儀鄭州科探儀器kt-z1650cvd是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對(duì)
更新時(shí)間:2023-07-19
KT-Z1650CVD 小型蒸鍍儀鄭州 科探
小型蒸鍍儀鄭州 科探kt-z1650cvd，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的pvd鍍膜技
更新時(shí)間:2023-07-16
KT-Z1650CVD 小型真空鎢舟熱蒸鍍儀
小型真空鎢舟熱蒸鍍儀kt-z1650cvd是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動(dòng)樣品擋板，靶臺(tái)旋轉(zhuǎn)，觸摸屏多段控制，工藝儲(chǔ)存等功能。正空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程：（1）加熱蒸發(fā)過程：包括由凝
更新時(shí)間:2023-07-13
KT-Z1650CVD 小型蒸鍍儀
                 小型蒸鍍儀kt-z1650cvd是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器
更新時(shí)間:2023-07-11
KT-Z1650CVD 桌面式小型蒸鍍儀
桌面式小型蒸鍍儀kt-z1650cvd臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的pvd鍍膜技術(shù)之
更新時(shí)間:2023-07-01
KT-Z1650CVD 小型蒸鍍儀 鄭州科探
小型蒸鍍儀 鄭州科探kt-z1650cvd是我公司專為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶群體設(shè)計(jì)開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準(zhǔn)無油高真空系統(tǒng)，機(jī)架電控一體化設(shè)計(jì)，整體布局緊湊合理，充分考慮人機(jī)
更新時(shí)間:2023-06-25
更新時(shí)間:2023-06-15
KT-Z1650CVD 小型坩堝真空蒸鍍儀
小型坩堝真空蒸鍍儀kt-z1650cvd小型蒸鍍儀 鄭州科探kt-z1650cvd，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，
更新時(shí)間:2023-06-12
真空鍍銅蒸鍍儀
鄭科探小型蒸鍍儀-熱蒸發(fā)源：電阻式熱蒸發(fā)舟，交流電源；-腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇；-泵：前級(jí)干泵，分子泵；工藝控制：pc/plc機(jī)制的自動(dòng)控制、數(shù)據(jù)處理、工藝記憶儲(chǔ)存；-襯底固定：?jiǎn)我r底固定
更新時(shí)間:2023-06-01
KT-Z1650CVD 真空小型蒸鍍儀
真空小型蒸鍍儀kt-z1650cvd  ? 設(shè)備一體化設(shè)計(jì)，占地面積小，*，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；? 設(shè)備兼容有機(jī)蒸發(fā)與無機(jī)蒸發(fā)，多元共蒸獲得復(fù)合膜/分蒸獲得多層膜，功能強(qiáng)大，
更新時(shí)間:2023-05-27
KT-Z1650CVD 鄭科探小型蒸鍍儀
鄭科探小型蒸鍍儀-熱蒸發(fā)源：電阻式熱蒸發(fā)舟，交流電源； - 腔體：不銹鋼或石英腔體可供客戶選擇； - 泵：前級(jí)干泵，分子泵； - load lock樣品傳輸腔室：手動(dòng)或自動(dòng)傳輸，高真空，支持多種樣品襯
更新時(shí)間:2023-05-25
KT-Z1650CVD 粉末坩堝蒸鍍儀
粉末坩堝蒸鍍儀鉻是受歡迎的金屬之一。鉻是一種銀色，有光澤，堅(jiān)硬，含雜質(zhì)的鉻硬而脆，具有很高的耐腐蝕性。它的熔點(diǎn)為1857℃，密度為7.2g / cm3，。它的名字來自希臘語“chroma”，意思是顏色
更新時(shí)間:2023-05-24
KT-Z1650PVD 高純度金顆粒蒸鍍儀
高純度金顆粒蒸鍍儀采用電子束蒸鍍金膜時(shí),會(huì)有微小的黑色顆粒出現(xiàn)在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規(guī)則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間,傳統(tǒng)的蒸鍍理論較難解釋這些黑色顆粒的成因。本文嘗試提出液
更新時(shí)間:2023-05-09
我公司生產(chǎn)的二氧化鋯產(chǎn)品為真空鍍膜材料，包括：各種規(guī)格的二氧化鋯壓片，白色二氧化鋯，高純二氧化鋯。二氧化鋯鍍膜材料性能：放氣量小，適于電子槍蒸發(fā)，膜層致密，牢固，抗化學(xué)腐蝕，用于多層膜、增透膜、 裝飾膜 、反射防止膜。規(guī)格大小可以根據(jù)客戶要求而做。同時(shí)我公司還生產(chǎn)各種氧化鋯陶瓷件。
更新時(shí)間:2023-04-23
更新時(shí)間:2023-04-23
更新時(shí)間:2023-04-23
KT-Z1650CVD 小型蒸鍍儀鄭州科探
電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)是鄭州科探儀器設(shè)備有限公司生產(chǎn)，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面小型蒸鍍儀鄭州科探kt-z165
更新時(shí)間:2023-04-17
小型蒸鍍儀 臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜 制備各種浸塑薄膜和有機(jī)薄膜
小型蒸鍍儀是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀器，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行蒸發(fā)沉淀，制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。
更新時(shí)間:2023-03-29
喬邦鍍銀鍍金鍍鎳XD-1000
喬邦鍍銀鍍金鍍鎳xd-1000技術(shù)指標(biāo)1. 元素分析范圍：氯（cl）- 鈾（u）2. 涂鍍層分析范圍：氯（cl）/鋰（li）- 鈾（u）3. 厚度檢出限：0.005μm4
更新時(shí)間:2022-06-26
KF真空法蘭光纖
真空法蘭光纖目廣泛應(yīng)用于各種真空檢測(cè)和真空設(shè)備，各種規(guī)格款式均可定制！
更新時(shí)間:2022-06-09
高純度金靶材磁控濺射儀
不同的蒸發(fā)速率下沉積300nm的au薄膜,研究蒸發(fā)速率對(duì)薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結(jié)構(gòu)變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。高純度金靶材磁控濺射儀kt-z1650pvd在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)。
更新時(shí)間:2022-04-27
粉末坩堝蒸鍍儀
粉末坩堝蒸鍍儀kt-z1650cvd是我公司為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶群體設(shè)計(jì)開發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開/關(guān)擋板，達(dá)到及時(shí)遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡(jiǎn)單，更有工藝儲(chǔ)存等功能。
更新時(shí)間:2022-04-27
真空鍍銅蒸鍍儀
真空鍍銅蒸鍍儀kt-z1650cvd是一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電、掃描電鏡制樣等。鍍銅可打底用，增進(jìn)電鍍層附著能力，及抗蝕能力。
更新時(shí)間:2022-04-27
銅靶材鍍膜濺射儀
以銅 (cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時(shí),不可避免地會(huì)引入硫、鉛等其他雜質(zhì)含量.微量的硫可以防止熱加工時(shí)晶粒尺寸增大或產(chǎn)生微裂紋;但當(dāng)硫元素含量高于18 ppm時(shí),會(huì)出現(xiàn)微裂紋;隨著兩種雜質(zhì)元素(硫和鉛)，銅靶材鍍膜濺射儀kt-z1650pvd為臺(tái)式磁控濺射鍍膜機(jī)，儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)，所得結(jié)果一致，可重復(fù)性高
更新時(shí)間:2022-04-27
銀靶材離子濺射儀
銀是一種柔軟，有光澤的元素，屬于元素周期表中的金屬過渡族。它的熔點(diǎn)為961.78℃，密度為10.49g /cm3.銀的理化性質(zhì)均較為穩(wěn)定，導(dǎo)熱、導(dǎo)電性能很好，質(zhì)軟，富延展性。銀的理化性質(zhì)均較為穩(wěn)定，導(dǎo)熱、導(dǎo)電性能很好，質(zhì)軟，富延展性。其反光率高，可達(dá)99%以上。銀靶材離子濺射儀kt-z1650pvd在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動(dòng)控制，設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)。
更新時(shí)間:2022-04-27

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