物理氣相沉積設(shè)備產(chǎn)品及廠家
概述針對有機(jī)材料沉積進(jìn)行了優(yōu)化多達(dá) 12 個 lte 信號源;1cc、10cc或35cc容量主體與摻雜劑比 1000：1多達(dá) 4 個熱蒸發(fā)源基板快門自動基板、掩膜存儲和更換
更新時間:2024-08-15
kurt j. lesker company lab line uhv 濺射平臺為磁控濺射沉積應(yīng)用而設(shè)計。為滿足 uhv 濺射工藝需求而定制的腔室設(shè)計、具有高編程、負(fù)載鎖定功能的行業(yè)佳軟件控制系統(tǒng)以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新設(shè)計提供的一些優(yōu)勢。®
更新時間:2024-08-15
al-1 無針孔 薄膜沉積設(shè)備通過交替向反應(yīng)室提供有機(jī)金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應(yīng)沉積薄膜，實現(xiàn)了高膜厚控制和良好的步驟覆蓋率。薄膜的厚度可以控制在原子層的數(shù)量。
更新時間:2024-08-15
kurt j. lesker company® nano 36™ 是我們優(yōu)化的入門沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計特別適合手套箱集成。nano 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實惠的價格點，同時保持了您期望從 kjlc 獲得的質(zhì)量。nano 36 與以下沉積技術(shù)兼容：
更新時間:2024-08-15
kurt j. lesker company 的 spectros™ 150 是基于主力 spectros 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。spectros平臺在全球擁有100多臺設(shè)備，是一種成
更新時間:2024-08-15
其強(qiáng)大的先進(jìn)研究工具設(shè)計用于適應(yīng)特定的薄膜應(yīng)用，如 gmr、cms、半導(dǎo)體、納米器件、光子學(xué)和光伏獨特的系統(tǒng)設(shè)計可以配置為真正的超高真空性能經(jīng)過現(xiàn)場測試和驗證的設(shè)計
更新時間:2024-08-15
kurt j. lesker company pro line pvd 200 是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，可實現(xiàn) 8 英寸晶圓轉(zhuǎn)移、多達(dá) 8 個濺射陰和 eklipse 高控制軟件。pvd 系列在全球擁有 500 多臺設(shè)備，是一種成熟、堅固且多功能的設(shè)計，由 pvd 75 和 200 平臺組成。pro line pvd 200 建立在原始設(shè)計的成功基礎(chǔ)上，改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空
更新時間:2024-08-15
kurt j. lesker company mini spectros™是基于主力spectros平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。spectros平臺在全球擁有100多臺設(shè)備，是一種成熟、堅固
更新時間:2024-08-15
kurt j. lesker company pvd-batch drum系列由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸（pvd 200 和 pvd 500）組成，可配置為水平或垂直配置。當(dāng)顆粒物是一個主要問題時，水平配置優(yōu)先。水平和垂直配置均可用于 3d 涂層的雙軸旋轉(zhuǎn)。通過每次運行的沉積面積來衡量的吞吐量范圍從幾百平方英寸到超過 2000 平方英寸，并且還提供更大的定制系統(tǒng)。
更新時間:2024-08-15
本裝置是在真空狀態(tài)中向產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)體的設(shè)備,在真空內(nèi)產(chǎn)品做自空傳,由能保持一定的膜厚度構(gòu)成的.
更新時間:2024-08-15
它實現(xiàn)高大量生產(chǎn)性的高真空基本sputter - 可以生產(chǎn)1batch/900ea以上的產(chǎn)品，以沉積及sputter工序的佳化，提升emi莫品質(zhì) - 證明“沉積-sputter-沉積-sputter”的工序連接的優(yōu)秀性（zero defects化），因精密的機(jī)器設(shè)置及優(yōu)秀的設(shè)備耐用性保持，維護(hù)周期長，價格便宜。
更新時間:2024-08-15
本裝置是在真空狀態(tài)下在產(chǎn)品外部涂層非導(dǎo)電體的coating設(shè)備，由真空內(nèi)產(chǎn)品做著自傳，公轉(zhuǎn),并能保持一定的膜厚度.
更新時間:2024-08-15
本裝置是在真空狀態(tài)下用于micro phone的厚度為4u film的gold(au)做sputtering的設(shè)備.
更新時間:2024-08-15
ganister™ a離子束沉積設(shè)備，是針對低溫、高致密、高均勻性薄膜沉積工藝所開發(fā)的用產(chǎn)品，在硬盤磁頭、硬磁偏置層、布拉格反射鏡等器件的制備中有著重要的應(yīng)用。該設(shè)備采用濺射成膜，靶材選
更新時間:2024-08-14
veeco 的單靶點 nexus pvdi 物理氣相沉積系統(tǒng)為各種薄膜沉積應(yīng)用提供了大的靈活性。nexus pvd 的加工精度為 200 毫米，具有先進(jìn)的工藝能力、無與倫比的均勻性和多種沉積模式
更新時間:2024-08-14
高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺等部分組成，體現(xiàn)立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝，操作面板一端處在相對要求較高超凈環(huán)境，其余部分（含低溫泵抽系統(tǒng)）處在相對要求較低超凈環(huán)境。本系統(tǒng)配有一套電子槍及電源，可滿足在al，ni，ag，pt，pd，mo,cr和ti等多種金屬
更新時間:2024-08-13
適用于硬偏置、引線、絕緣層和傳感器堆棧沉積數(shù)據(jù)存儲制造商可以借助 veeco 的第三代 nexus? 離子束沉積 （ibd） 系統(tǒng)大幅提高 80gb/in2 傳感器的產(chǎn)量，并滿足未來 tfmh 設(shè)備制造的需求。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程？稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應(yīng)用于物理，生物，化學(xué)，材料，電子等域。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：脈沖激光沉積(pulsed laser deposition，簡稱pld)是新近發(fā)展起來的一項技術(shù)，繼20世紀(jì)80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導(dǎo)薄膜之后，它獨特的優(yōu)點和潛力逐漸被人們認(rèn)識和重視。該項技術(shù)在生成復(fù)雜的化合物薄膜方面得到了非常好的結(jié)果。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：本沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)先的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備？蓮V泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備？蓮V泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備？蓮V泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備用途：用于納米單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備？蓮V泛應(yīng)用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。設(shè)備特點：本設(shè)備是一個鍍膜平臺，可把
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺等部分組成，體現(xiàn)立方整體外觀，適用于超凈間間壁隔離安裝
更新時間:2024-08-13
光掩模制造需要高水平的顆？刂疲瑫r沉積復(fù)雜的多層薄膜結(jié)構(gòu)。veeco 的 nexus ibd-ldd 離子束沉積系統(tǒng)可以應(yīng)對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來，veeco 已成功服務(wù)于光掩模市場，多年的學(xué)習(xí)造就了當(dāng)先進(jìn)的系統(tǒng)。ibd-ldd 系統(tǒng)是當(dāng) euv 掩模坯料上的鉬 （mo） 和硅 （si） 多層沉積和釕 （ru） 封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進(jìn)薄膜的掩模應(yīng)用。
更新時間:2024-08-13
ec400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，為薄膜制備與研究設(shè)計。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)，以及先進(jìn)的plc+觸摸屏自動控制系統(tǒng)。該設(shè)備采用一體化設(shè)計，將主機(jī)與控制單元緊密結(jié)合，不僅操作簡便，而且結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，非常適合實驗室環(huán)境使用。
更新時間:2024-08-13
ms450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)是一種高真空環(huán)境下的先進(jìn)鍍膜設(shè)備，廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、納米技術(shù)、電子工程等多個域。
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：該設(shè)備主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其
更新時間:2024-08-13
產(chǎn)品概述：該設(shè)備主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)；真空測量系統(tǒng)；蒸發(fā)源；樣品加熱控溫；電控系統(tǒng)；配氣系統(tǒng)等部分組成。該系統(tǒng)可與手套箱對接。設(shè)備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件
更新時間:2024-08-13
covap pvd 平臺為許多過程應(yīng)用提供了緊湊、經(jīng)濟(jì)且仍然強(qiáng)大的解決方案。為需要安全可靠的工具的實驗室而設(shè)計，該工具可在緊湊的占地面積內(nèi)生產(chǎn)可重復(fù)的高質(zhì)量薄膜。沉積源被隔離，以減少熱效應(yīng)和交叉污染。covap pvd平臺配備了一整套可拆卸的腔室屏蔽層，以確保腔室易于清潔和維護(hù)。在腔室打開時，源、功率和氣動壓力被切斷，確保了高別的安全性。它可以集成到手套箱中，也可以在獨立配置中選擇.
更新時間:2024-08-12
箱式涂布機(jī)是一種靈活的、與潔凈室兼容的涂布平臺，能夠從小批量生產(chǎn)到大批量生產(chǎn)，能夠主動建模和校正膜厚不均勻性、材料產(chǎn)量和產(chǎn)量。您的研究目標(biāo)、生產(chǎn)需求和/或應(yīng)用終目標(biāo)將告知如何裝備您的箱式涂布機(jī)。它非常適合各種應(yīng)用，包括金屬化、光學(xué)鍍膜、傳感和銦凸塊鍵合制造。
更新時間:2024-08-12
evovac pvd 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強(qiáng)。evovac 物理氣相沉積平臺是我們具可定制性的單腔室平臺，因此它可以配備用于特定應(yīng)用的工具，也可以成為適合您實驗室中各種獨特用戶的多功能多源沉積主力。
更新時間:2024-08-12
nexdep pvd平臺在經(jīng)濟(jì)性和多功能性之間取得了平衡。它可以配備強(qiáng)大的工藝增強(qiáng)功能，而不會占用實驗室的所有空間或預(yù)算。您的研究目標(biāo)、生產(chǎn)需求和/或應(yīng)用終目標(biāo)將告知如何裝備您的 nexdep pvd 平臺。
更新時間:2024-08-12
angstrom engineering 的 amod pvd 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)該 pvd 平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應(yīng)更多的工藝增強(qiáng)功能。您的研究目標(biāo)、生產(chǎn)需求和/或應(yīng)用終目標(biāo)將告知如何裝備您的 amod pvd 平臺。
更新時間:2024-08-12
evictor系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)加熱基座設(shè)計，具備良好的溫度均勻性，高溫厚鋁工藝連續(xù)作業(yè)無累溫
更新時間:2024-06-21
evictor al pvd 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)先進(jìn)的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率
更新時間:2024-06-21
polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計有效提高靶材利用率
更新時間:2024-06-21
概述：沉積系統(tǒng)可用于制備光學(xué)薄膜、電學(xué)薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護(hù)薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用行業(yè)好的軟件控制系統(tǒng)；4英寸鍍膜區(qū)域內(nèi)片內(nèi)膜厚不均勻性：≤±2.5%，8英寸鍍膜區(qū)域內(nèi)片內(nèi)膜厚不均勻性：≤±3.5%，測定標(biāo)準(zhǔn)以ti靶材，濺射200——500nm厚薄膜，邊緣去5mm，隨機(jī)5點取樣測定為準(zhǔn)。
更新時間:2024-06-04
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