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外延系統(tǒng)產(chǎn)品及廠家

GEN2000分子束外延MBE

gen2000® mbe 系統(tǒng)提供卓越的吞吐量、更長(zhǎng)的活動(dòng)周期、更小的占地面積和集群工具晶圓處理。它是 hbt 和 phemt 等無線通信設(shè)備大批量生產(chǎn)以及需要以低擁有成本生產(chǎn) 6 英寸的新興應(yīng)用的理想選擇。

更新時(shí)間:2024-08-14

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

GEN200分子束外延MBE

veeco 的 gen200® mbe 系統(tǒng)是當(dāng)市場(chǎng)上具成本效益和高容量的多 4 英寸生產(chǎn) mbe 系統(tǒng)。該系統(tǒng)在用于泵浦激光器、vcsel 和 hbt 等設(shè)備的生長(zhǎng)中提供卓越的吞吐量、長(zhǎng)時(shí)間的加工周期和出色的晶圓質(zhì)量。

更新時(shí)間:2024-08-14

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

gen10™ mbe 系統(tǒng)是成熟平臺(tái)中經(jīng)濟(jì)、靈活的簇狀工具系統(tǒng)，允許多達(dá)三個(gè)可配置的、特定于材料的生長(zhǎng)模塊。這使得系統(tǒng)利用率高，允許多個(gè)研究人員同時(shí)使用該系統(tǒng)，并在無人值守的情況下進(jìn)行生長(zhǎng)和校準(zhǔn)。這與 veeco 組件技術(shù)相結(jié)合，是 mbe 社區(qū)選擇 gen10™ mbe 系統(tǒng)的關(guān)鍵因素，無論應(yīng)用是什么。

更新時(shí)間:2024-08-14

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GENxcel R&D分子束外延MBE

屢獲殊榮的新型 genxcel™ 系統(tǒng)是在 genxplor 的基礎(chǔ)上進(jìn)行的擴(kuò)展，genxplor™ 是自 2013 年 8 月推出以來暢銷的 mbe 系統(tǒng)，與 genxpl

更新時(shí)間:2024-08-14

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GENxplor R&DMBE分子束外延系統(tǒng)

genxplor® r&d mbe系統(tǒng)獲得了化合物半導(dǎo)體制造的csindustry獎(jiǎng)，采用veeco成熟的3英寸生長(zhǎng)室設(shè)計(jì)，并具有無與倫比的工藝靈活性，非常適合uv led、高效太陽能電池和高溫超導(dǎo)體等新興技術(shù)的材料研究。其高效的單框架設(shè)計(jì)將所有真空硬件與機(jī)載電子設(shè)備相結(jié)合，使其比其他 mbe 系統(tǒng)小 40%，從而節(jié)省寶貴的實(shí)驗(yàn)室空間。

更新時(shí)間:2024-08-14

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MBE 8000分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)

分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)mbe 8000旨在滿足對(duì)高性能化合物半導(dǎo)體器件日益增長(zhǎng)的需求。這種在超高壓環(huán)境中使用超純金屬的 8×6ʺ 或 4×8ʺ 固源 mbe 系統(tǒng)在設(shè)計(jì)、溫度均勻性和通量均勻性方面超出了先進(jìn)的基本預(yù)期。該系統(tǒng)能夠培養(yǎng) 8 個(gè) 150 毫米（6 英寸）晶圓或 4 個(gè) 200 毫米（8 英寸）晶圓的批次，這些晶圓具有顯著的均勻性（成分、厚度）和非常低的缺陷水平。

更新時(shí)間:2024-08-13

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LMBE450超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品概述：超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、工作氣路、電控系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制等各部分組成。設(shè)備用

更新時(shí)間:2024-08-13

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

Epiluvac ER3-C1SiC分子外延系統(tǒng)MBE

epiluvac 產(chǎn)品通常作為完整的系統(tǒng)交付，包括反應(yīng)器模塊、氣體輸送系統(tǒng)、過程控制、安全系統(tǒng)、安裝和調(diào)試。每個(gè)系統(tǒng)在發(fā)貨都經(jīng)過廣泛的測(cè)試，一旦安裝，交付還包括所有必要的客戶操作和維護(hù)培訓(xùn)。

更新時(shí)間:2024-08-13

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MBE 6000Riber分子束外延系統(tǒng)

riber分子束外延系統(tǒng)的 multi 4“ / 6” mbe 6000 是全球每個(gè)成功的大批量商家或內(nèi)部 epi 操作的核心。它是高通量和可重復(fù)性的mbe基準(zhǔn)�；顒�(dòng)時(shí)間通常超過一年，這證明了反應(yīng)堆的穩(wěn)定性和可靠性。沒有比riber的新客戶和長(zhǎng)期客戶重復(fù)下訂單更有力的認(rèn)可了。有許多晶圓廠配備了 2 – 8 個(gè) mbe 6000,24 / 7 并排運(yùn)行。初，系統(tǒng)主要用于制造大量微波器件材料。

更新時(shí)間:2024-08-12

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緊湊21 – 3 英寸MBE分子束外延

自新千年到來之推出以來，compact 21 已成為有史以來成功的商用 3 英寸 mbe 系統(tǒng)。憑借核心 compact 21 dna 在所有配置（iii-v、ii-vi、gp iv、氧化物、金屬、gsmbe）中都很明顯，該多功能系統(tǒng)在從基礎(chǔ)研究到設(shè)備開發(fā)和優(yōu)化的每個(gè)研究域都得到了卓越的服務(wù)。它多可容納 12 個(gè)源端口，并且與電子槍兼容。這款整潔而強(qiáng)大的反應(yīng)器可提供手動(dòng)或全自動(dòng)

更新時(shí)間:2024-08-09

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

MBE 49Riber分子束外延系統(tǒng)

riber mbe 49 系列全自動(dòng)生產(chǎn)機(jī)器為材料質(zhì)量、產(chǎn)量、產(chǎn)量以及與操作和維護(hù)相關(guān)的成本設(shè)定了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。超過55個(gè)這樣的系統(tǒng)已經(jīng)在全球范圍內(nèi)交付，他們?yōu)榭蛻魩淼某晒κ乖撓盗蟹磻?yīng)器獲得了廣泛持有和當(dāng)之無愧的聲譽(yù)，因?yàn)樗剐碌幕衔锇雽?dǎo)體器件技術(shù)的商業(yè)化能夠在其他地方無與倫比的范圍和規(guī)模上實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。mbe 49 系列有四個(gè)反應(yīng)器，門設(shè)計(jì)用于沉積砷化物、磷化物、氮化物和氧化物。

更新時(shí)間:2024-08-09

該公司產(chǎn)品分類：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司